Печать
2001 №04 (08) 2001 №04 (10)

Современная электрометаллургия 2001 №04


Журнал «Проблемы специальной электрометаллургии», № 4, 2001 г., с. 41-43

Исследовательская ионно-плазменная установка для нанесения покрытий в вакууме

А.В. Демчишин, Ю.А. Курапов, А.А. Гончаров, В.А. Миченко, Е.Г. Костин, Е.Г. Терновой

Ин-т электросварки им. Е. О Патона НАН Украины, Киев

Реферат
Спроектирована и изготовлена исследовательская многофункциональная вакуумная установка для изучения физических принципов работы устройств ионного травления и распыления внутри вакуумной рабочей камеры и разработки необходимых технологических процессов. Установка позволяет осуществлять поочередно или одно-временно оба процесса - вакуумно-плазменное травление и осаждение покрытия на рабочие поверхности длинномерных изделий.
Ключевые слова: вакуумная установка; ионно-плаз- менные устройства; ионная бомбардировка; вакуумное травление; распыление; цилиндрический магнетрон; напыление длинномерных изделий

Список литературы

1. Малогабаритная установка вакуумного ионно-плазменного напыления С. А. Кириллов, И. К Зверев, Д. Н. Коржов. В. Н. Гончиков / / ' Изв. вузов. Черн. металлургия. - 2001. — № 4. — С. 48-50.
2. Носов Г. И., Хороших В. М., Калинина Н. Е. Ионное азотирование быстрорежущей стали в плазме дуги с термокатодом Сб. докл. 4-го Международного си>шозил-ма «Вакуумные технологии и оборудование». — Харьков: ХФТИ/2001. - С. 361-364.
Эта статья в открытом доступе по Creative Commons Attribution Non-Commercial 4.0 International (CC-BY-NC).