Журнал «Автоматичне зварювання», № 9, 2022, с. 16-20
Вплив параметрів процесу магнетронного напилення на фазовий склад і структуру покриттів з нітриду вуглецю
Ю.С. Борисов1, О.В. Волос1, Н.В. Вігілянська1, В.Г. Задоя1, В.В. Стрельчук2
1ІЕЗ ім. Є.О. Патона НАН України. 03150, м. Київ, вул. Казимира Малевича, 11. E-mail: office@paton.kiev.ua
2ІФН ім. В.Є. Лашкарьова НАН України. 02000, м. Київ, просп. Науки, 45
Осадження CNx-покриттів проводили за допомогою двох магнетронних пристроїв з титановою та графітовою мішенню в
суміші газів Ar/N2. Досліджено вплив складу газової суміші (Ar/N2), тиску (0,35, 1 та 2 Па) та температури (100…200 °C)
на структуру покриття CNx. Встановлено, що структура покриття являє собою аморфну розупорядковану графітоподібну структуру з sp3-, sp2- і sp1 електронними звʼязками вуглецю. Найбільш упорядкована структура спостерігається у
покриттів CNx (найменша ID/IG = 1,16 і 1,2), отриманих при тиску 0,35 Па, температурі зразка 130 °С, вмісті азоту 40
і 58 %. Вивчено вплив підшара титану та перехідного шару TiCN на адгезійні властивості покриття CNx. При спільному використанні підшара титану та перехідного шару TiCN збільшується адгезія покриття до основ з титану та сталі
Х18Н10Т при товщині покриття 2…3 мкм. Бібліогр. 15, табл. 2, рис. 6.
Ключові слова: магнетронне розпилення, покриття CNx, структура, фазовий склад, раманівська спектроскопія
Надійшла до редакції 04.07.2022
Список літератури
1. Hultman, L., Neidhardt, J., Hellgren, N. et al. (2003) Fullerenelike Carbon Nitride: A Resilient Coating Material. MRS
Bulletin, 28(03), 194–202. doi:10.1557/mrs2003.62
2. Liu, A.Y., Cohen, M.L. (1989) Prediction of New Low Compressibility
Solids. Science, 245(4920), 841–842. doi:10.1126/
science.245.4920.841
3. Liu, D., Ruan, C.F., Zhang, P. et al. (2021) Structural, interface
texture and toughness of TiAlN/CN multilayer films.
Materials Characterization, 178, 111301. doi:10.1016/j.
matchar.2021.111301
4. Vyas, A., Shen, Y., Zhou, Z., Li, K. (2008) Nano-structured
CrN/CNx multilayer films deposited by magnetron sputtering.
Composites Science and Technology, 68(14), 2922–2929.
doi:10.1016/j.compscitech.2007.11.002
5. Nishimura, H., Umehara, N., Kousaka, H., Tokoroyama, T.
(2016) Clarification of relationship between friction coefficient
and transformed layer of CNx coating by in-situ spectroscopic
analysis. Tribology International, 93, 660–665.
doi:10.1016/j.triboint.2014.12.015
6. Chen, R., Tu, J.P., Liu, D.G. et al. (2012) Structural and
mechanical properties of TaN/a-CN
x multilayer films. Surface
and Coatings Technology, 206(8–9), 2242–2248.
doi:10.1016/j.surfcoat.2011.09.072
7. Wang, M., Toihara, T., Sakurai, M. et al. (2014) Surface morphology
and tribological properties of DC sputtered nanoscale
multilayered TiAlN/CNx coatings. Tribology International,
73, 36–46. doi:10.1016/j.triboint.2014.01.008
8. Contreras, E., Bolívar, F., Gómez, M.A. (2017) Influence of
nitrogen variation on the microstructrual, mechanical and tribological
properties of CNx coatings deposited by dc unbalanced
magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology,
332, 414–421. doi:10.1016/j.surfcoat.2017.05.095
9. Cui F.Z., Qing X.L., Li D.J., Zhao J. (2005) Biomedical investigations
on CNx coating. Surface & Coating Technology,
200(1–4), 1009–1013. doi:10.1016/j.surfcoat.2005.02.157
10. Kovács, G.J., Veres, M., Koós, M., Radnóczi, G. (2008)
Raman spectroscopic study of magnetron sputtered carbon–
nickel and carbon nitride-nickel composite films: The
effect of nickel on the atomic structure of the C/CNx matrix.
Thin Solid Films, 516(21), 7910–7915. doi:10.1016/j.
tsf.2008.04.081
11. Mubumbila, N., Tessier, P.-Y., Angleraud, B., Turban, G.
(2002) Effect of nitrogen incorporation in CNx thin films
deposited by RF magnetron sputtering. Surface and Coatings
Technology, 151–152, 175–179. doi:10.1016/s0257–
8972(01)01569–9
12. Broitman, E., Czigány, Z., Greczynski, G. et al. (2010)
Industrial-scale
deposition of highly adherent CNx films on
steel substrates. Surface and Coatings Technology, 204(21–
22), 3349–3357. doi:10.1016/j.surfcoat.2010.03.038
13. Charitidis, C., Patsalas, P., Logothetidis, S. (2005) Effects of
energetic species during the growth of nitrogenated amorphous
carbon thin films on their nanomechanical properties.
Thin Solid Films, 482(1–2), 177–182. doi:10.1016/j.
tsf.2004.11.167
14. Tétard, F., Djemia, P., Angleraud, B. et al. (2002) Surface and
bulk characterizations of CNx thin films made by r.f. magnetron
sputtering. Surface and Coating Technolody, 151–152,
184–188. doi:10.1016/s0257–8972(01)01574–2
15. Gradowski, M.V., Ferrari, A.C., Ohr, R. et al. (2003) Resonant
Raman characterisation of ultra-thin nano-protective carbon
layers for magnetic storage devices. Ibid., 174–175, 246–252.
doi:10.1016/s0257–8972(03)00602–9
Реклама в цьому номері: