Eng
Ukr
Rus
Триває друк
2019 №04 (02) DOI of Article
10.15407/sem2019.04.03
2019 №04 (04)

Сучасна електрометалургія 2019 #04
SEM, 2019, #4, 18-25 pages

Journal                    Современная электрометаллургия
Publisher                International Association «Welding»
ISSN                      2415-8445 (print)
Issue                       № 4, 2019 (November)
Pages                      18-25
 
Гібридні системи для електронно-променевого випаровування та іонного розпилення

А.І. Кузьмичєв1, А.І. Устінов2, О.Е. Руденко2, І.М. Дрозд1
1НТУУ «КПІ ім. Ігоря Сікорского». 03056, м. Київ, просп. Перемоги, 37. E-mail: kuzmichev-kpi@ukr.net
2ІЕЗ ім. Є.О. Патона НАН України. 03150, м. Київ, вул. Казимира Мадевичв, 11. E-mail: office@paton.kiev.ua

Розглянуто гібридні системи для електронно-променевого випаровування з іонним асистуванням процесу конденсації випарюваної речовини у вигляді покриття. Представлена система, в якій іони аргону генерувалися за допомогою магнетронного розряду, створюваного навколо підкладки у вигляді стрижня, що служить катодом цього розряду. Мета іонного асистування — розпилення поверхні підкладки для фінішної очистки перед нанесенням покриття і бомбардування іонами конденсату під час осадження для іонно-кінетичної дії на структуру покриття. Реалізовано процес нанесення демпферного покриття MgO–Cr–Sn на титанову підкладку методом електронно-променевого випаровування з асистуванням іонами аргону підкладки в умовах відносно низьких температур (200 °С). Бібліогр. 8, рис. 9.
Ключові слова: електронно-променеве випаровування; іони; асистування; бомбардування; магнетронний розряд; демпфіруючі покриття; конденсат; осадження; підкладка
 
Received:                30.10.19
Published:               23.09.19
 

Список літератури

1. Шиллер З., Гайзинг У., Панцер З. (1980) Электронно-лучевая технология. Москва, Энергия.
2. Мовчан Б.А., Малашенко И.С. (1983) Жаростойкие покрытия, осаждаемые в вакууме. Киев, Наукова думка.
3. Белевский В. П., Кузьмичев А.И. (1984) Методы термоионного осаждения для нанесения металлических покрытий. Киев, Общество «Знание».
4. Bunshah R.F. (ed.) (1994) Handbook of deposition technologies for films and coatings. Noyes Publications.
5. Hopwood J.A. (ed.) (2000) Ionized physical vapor deposition. Academic Press.
6. Кузьмичев А.И., Бабинов Н.А., Лисенков А.А. (2016) Плазменные эмиттеры источников заряженных и нейтральных частиц. Киев, Аверс.
>