Сучасна електрометалургія, 2019, #3, 23-28 pages
Journal Современная электрометаллургия
Publisher International Association «Welding»
ISSN 2415-8445 (print)
Issue № 3, 2019 (September)
Pages 23-28
Вакуумно-дугова установка для нанесення функціональних покриттів
А.В. Демчишин1, А.А. Демчишин2, В.А. Міченко1
1Інститут проблем материіалознавства ім. І.М. Францевича НАН України.
03142, м. Київ, вул. Кржижанівського, 3. E-mail: ademch@ipms.kiev.ua
2НТУУ «КПІ ім. Ігоря Сікорского».
03056, м. Київ, просп. Перемоги, 37
Приведено модифіковану вакуумно-дугову установку промислового типу загальною потужністю 120 кВт для нанесення функціональних покриттів на деталі відповідального призначення. Особливістю установки є використання більш простих у виготовленні вісьми планарних катодів замість одного трубчастого, що забезпечує більш тривалий ресурс роботи установки без заміни випаровуємих елементів, зниження рівня порогового струму дугового розряду, більш високий коефіцієнт використання матеріалу катодів, а також отримання в одному технологічному процесі двошарових покриттів з різним вмістом легуючих елементів (наприклад, Al в титановому сплаві) у кожному шарі шляхом послідовного використання чотирьох катодів з одним хімічним складом, а потім наступних чотирьох катодів з другим хімічним складом. Пропонуєма установка передбачає також використання імпульсно-модульованого джерела живлення підкладкотримача, що дозволяє одержувати високоякісні шари металевих і неметалевих покриттів на поверхні робочих виробів. Опрацьована технологія катодно-дугового випаровування з використанням планарних катодів з технічно чистого титану та нікелевих сплавів СДП-2 і СДП-6 на модифікованій вакуумно-дуговій установці Булат-3Т. Приведено структуру поверхні і поперечного злому конденсату СДП-6 товщиною 60…80 мкм та розподіл металевих елементів по товщині конденсату, яке свідчить про хімічну однорідність осадженого шару. Як приклад показано лопатку із жароміцного нікелевого сплаву ЖС6 з нанесеним таким чином функціональним покриттям із сплава СДП-6. Бібліогр. 2, рис. 6.
Ключові слова: вакуумно-дугова установка; планарний катод; імпульсне джерело живлення; підкладкотримач; структура поверхні; конденсат; розподіл елементів; покриття
Received: 11.06.19
Published: 03.10.19
Список літератури
1. Саблев Л.П., Долотов Ю.И., Ступак Р.И., Осипов В.А. (1976) Электродуговой испаритель металлов с магнитным удержанием катодного пятна. Приборы и техника экспериментов, 4, 247–249.
2. Демчишин А.В., Міченко В Вакуумний електродуговий.А., Костриця В.В. (2009) випарник. Україна, Пат. 86841.